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半導體儲存器中氮氣吹掃有關質量流量控制器的使用

介紹

通常在半導體設施內安裝有儲存器,以在等待下一個製程時存儲工件,例如晶圓,平板顯示器,LCD,光蝕刻倍縮光罩版或光罩。儲料器是自動物料處理系統的一部分。根據需要存儲的材料和製造廠的環境,定義了對儲存設備的要。

在這個應用中,我們討論了使用質量流量控制器來控制超純氮氣的吹掃以確保面光罩在等待下一個處理步驟的潔淨。

我們與半導體行業領先的儲存設備的供應商建立了合作夥伴關係。 他們的設備供亞洲主要的半導體工廠所使用。 從設計要求到儲存系統使用的組件設計,該供應商與他們的客戶和Bronkhorst緊密合作。這樣做是為了滿足他們對高精度,流量穩定性和成本效率的期望。


應用要求

對於該專案,客戶正在尋求減少可能影響光罩質量的污染物和TOC化合物。 光罩是半導體IC製造的最尖端組件。 污染的光罩會影響矽晶片製造製程的良率。重要的是,我們的產品必須在成本效益,高質量和功能方面達到客戶的期望,從而有助於客戶提高目標產量。


重要議題

  • 質量流量控制器的準確性和一致的再現性
  • 通過優化產品以滿足客戶的特定需求來降低成本
  • 通過根據設備設計客製化的主體來減少設備的佔地面積
  • 通過受控和可追溯的製造方法提高潔淨度

製程解決方案

質量流量控制器在此製程中的主要功用是監測並控制吹掃氣體如: 超高純度(UHP) N2(A)或清潔乾燥空氣(CDA)(B)。在較早的晶圓廠中經常使用CDA吹掃(B),而先進晶圓廠則使用UHP N2吹掃(A)。

為了在不增加不必要成本的情況下滿足在儲存器中所使用質量流量計的特定設計要求,我們當地銷售與工程團隊協助開發符合品質與高精準要求的產品,滿足儲存器設備商與半導體製造商的高標準。 憑藉我們40多年在質量流量計和控制器的經驗,我們能夠用某些標準系列產品(CTA原理的MASS-STREAM流量控制器,或是毛細管旁通原理的EL -FLOW)為客戶提供客製化的解決方案。這些產品是由若干單個單元所配置而提供。


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